臺(tái)式掃描電鏡和透射電鏡有哪些相似點(diǎn)和不同點(diǎn)呢，今天小編就帶大家簡單了解一下。

 一、掃描電鏡和透射電鏡設(shè)備的不同點(diǎn)：

臺(tái)式掃描電鏡使用—組特定的線圈以光柵樣式掃描樣品并收集散射的電子。

透射電鏡是使用透射電子，收集透過樣品的電子。因此，透射電鏡提供了樣品的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，如晶體結(jié)構(gòu)，形態(tài)和應(yīng)力狀態(tài)信息，而掃描電鏡則提供了樣品表面及其組成的信息。

二、臺(tái)式掃描電鏡和透射電鏡操作上的差異

這兩種電子顯微鏡在系統(tǒng)操作方式上也有所不同。sem掃描電鏡通常使用15kV以上的加速電壓，而透射電鏡可以將其設(shè)置在60-300kV的范圍內(nèi)。

與掃描電鏡相比，透射電鏡提供的放大倍數(shù)也相當(dāng)高:透射電鏡可以將樣品放大5000萬倍以上，而對于sem掃描電鏡來說，限制在1-2百萬倍之間。

掃描電鏡可以實(shí)現(xiàn)很大的視場，遠(yuǎn)大于透射電鏡，用戶可以只對樣品的一小部分進(jìn)行成像。同樣，sem掃描電鏡系統(tǒng)的景深也遠(yuǎn)高于透射電鏡系統(tǒng)。

三、掃描電鏡和透射電鏡對樣品的要求

 1、掃描電鏡對樣品的要求

 掃描電鏡制樣對樣品的厚度沒有特殊要求，可以采用切、磨、拋光等方法將特定剖面呈現(xiàn)出可以觀察的表面就可以。這樣的表面如果直接觀察，看到的只有表面加工損傷，一般要利用不同的化學(xué)溶液進(jìn)行擇優(yōu)腐蝕，才能產(chǎn)生有利于觀察的襯度。不過腐蝕會(huì)使樣品失去原結(jié)構(gòu)的部分真實(shí)情況，同時(shí)引入部分人為的干擾，對樣品中厚度很小的薄層來說，造成的誤差更大。

2、透射電鏡對樣品的要求

由于透射電鏡得到的顯微圖像的質(zhì)量強(qiáng)烈依賴于樣品的厚度，因此樣品觀測部位要非常的薄，例如存儲(chǔ)器器件的透射電鏡樣品一般只能有10～100nm的厚度，這給透射電鏡制樣帶來很大的難度。初學(xué)者在制樣過程中用手工或者機(jī)械控制磨制的成品率不高，一旦過度削磨則使該樣品報(bào)廢。透射電鏡制樣的另一個(gè)問題是觀測點(diǎn)的定位，一般的制樣只能獲得10mm量級的薄的觀測范圍，這需要在精確定位分析的時(shí)候，目標(biāo)往往落在觀測范圍之外。目前比較理想的解決方法是通過聚焦離子束刻蝕(FIB)來進(jìn)行精細(xì)加工。

上面幾點(diǎn)內(nèi)容就是小編給大家介紹的臺(tái)式掃描電鏡和透射電鏡的幾點(diǎn)區(qū)別。更多關(guān)于掃描電鏡的問題您可以網(wǎng)站留言或是電話咨詢小編。下期分享內(nèi)容再見！